シーボン、心因性ホルモンが真皮ヒアルロン酸に影響するメカニズムを発見 オキシトシンとコルチゾールが受容体を介し制御
株式会社シーボンは、心理状態が肌に与える影響について研究を進めています。この度、心因性ホルモンであるオキシトシンとコルチゾールが、それぞれの受容体を介して真皮ヒアルロン酸の合成に影響を及ぼすことを発見したと発表しました。
この研究成果の一部は、2025年11月3日から5日に開催された第98回日本生化学会大会で発表されました。
心と肌の密接なつながり
脳と皮膚は同じ起源を持つことから「皮脳同根」という考えがあり、心と皮膚には密接な繋がりがあると言われています。シーボンでは、この考えに基づき、心理状態が皮膚に与える影響を科学的に解明することを目指し、心因性ホルモンと肌との関連性に関する研究を進めています。
今回の研究では、心理状態に応じて分泌されるホルモンであるオキシトシンとコルチゾールが、どのようにヒアルロン酸の生成を制御するかに着目。各ホルモンの受容体が化粧品素材の新たなターゲットとなる可能性を見出しました。
※1:オキシトシンは「幸せホルモン」とも呼ばれる心因性ホルモンで、スキンシップやマッサージにより血中濃度が上昇します。
※2:コルチゾールは「ストレスホルモン」とも呼ばれる心因性ホルモンで、過度なストレスに反応して血中濃度が上昇します。
オキシトシンとコルチゾールがヒアルロン酸合成を調節
研究グループは、真皮線維芽細胞を用いて、オキシトシン単体、またはオキシトシン受容体阻害剤との共作用がヒアルロン酸合成酵素(HAS2)の遺伝子発現量と培養上清中のヒアルロン酸濃度に与える影響を評価しました。
同様に、コルチゾール単体、またはグルココルチコイド受容体阻害剤との共作用についても評価を実施しました。
その結果、オキシトシン単作用によってHAS2遺伝子発現量が増加し、オキシトシン受容体阻害剤との共作用では減少することが確認されました。一方、コルチゾール単作用ではHAS2の遺伝子発現量が減少しましたが、グルココルチコイド受容体阻害剤との共作用により増加することが明らかになりました。

これらの結果から、オキシトシンとコルチゾールが真皮線維芽細胞において、それぞれの受容体を介してヒアルロン酸合成酵素の働きを調節している可能性が示唆されています。
今後の展望とシーボン独自のビューティ・プログラム
この研究により、オキシトシン受容体およびグルココルチコイド受容体の感作が、肌のハリや弾力に関与するヒアルロン酸合成酵素HAS2の発現量を制御することが明らかになりました。

シーボンは、心因性ホルモンに着目した研究を通じて、肌のヒアルロン酸合成への影響を解明しました。今後も肌と心の関係を探求し、顧客の肌悩みを解決する製品やサービスの提供に努めていくとしています。
シーボンは1966年の創業以来、研究・開発から製造、販売までを一貫して行う日本の化粧品メーカーです。全国97店舗(会員制/直営94店舗、代理店3店舗)のサロンを通じて、化粧品販売とアフターサービスを提供しています。
独自の「ビューティ・プログラム」では、毎日のスキンケアとサロンでの定期的な肌カウンセリング、フェイシャルトリートメントを組み合わせることで、日々変化する素肌を健やかに育むことを目指しています。
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シーボン 公式ホームページ: https://www.cbon.co.jp/net/
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シーボン ビューティージャーナル: https://www.cbon.co.jp/journal/interview/
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